半导体
从实验室到晶圆厂的 X 射线计量解决方案
半导体蕴含着推动世界进步的力量。作为全球领先的半导体工艺研发与大规模制造X射线计量设备供应商，理学正致力于将这一愿景转变为现实。
凭借超过七十年的全球市场领导地位，理学公司始终是X射线技术仪器领域的领军制造商，致力于解决半导体研发与生产中的制造难题。我们先进的系列产品为全产业链提供解决方案——从晶圆厂内工艺控制计量，到薄膜与材料表征的研发需求，全面覆盖产业关键环节。
XTRAIA MF-3400
Multi-functional XRR / XRD / XRF metrology system for thin-film analysis and process control for patterned wafer up to 300 mm.
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XTRAIA MF-2000
集成XRR、EDXRF和XRD的计量工具：EDXRF用于测量薄膜成分与厚度；XRR用于测量薄膜厚度、密度与粗糙度；适用于最大200毫米晶圆的图案化与非图案化薄膜
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XHEMIS TX-2000
Next-generation total-reflection XRF system for surface-metal control in semiconductor fabs for wafers up to 200 mm
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TFXRD Lab
高分辨率X射线衍射（HRXRD）与X射线反射（XRR）系统，可实现非图案化外延薄膜的厚度、密度、表面/界面粗糙度、成分分布、应变、弛豫状态及倒易空间映射（RSM）的多维度表征。系统具备全晶圆映射能力，可覆盖直径达300mm的晶圆，适用于半导体制造的近厂（Near-Fab）应用场景。
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TFXRD Near Fab
高分辨率X射线衍射（HRXRD）与X射线反射（XRR）系统，可实现非图案化外延薄膜的厚度、密度、表面/界面粗糙度、成分分布、应变、弛豫状态及倒易空间映射（RSM）的多维度表征。系统具备全晶圆映射能力，可覆盖直径达200mm的晶圆，适用于半导体制造的近厂（Near-Fab）应用场景。
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XTRAIA XD-2000R
Non-destructive X-ray reflectometry metrology tool for multilayer films, EUV masks, and advanced thin-film applications.
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XRTmicron (Lab)
X射线形貌（XRT）成像系统，可针对功率电子、光电子及5G/6G通信领域的核心半导体材料（碳化硅（SiC）、氮化镓（GaN）、砷化镓（GaAs）、磷化铟（InP）、氧化镓（Ga₂O₃））开展单晶缺陷可视化表征，支持直径达300mm的晶圆测试。
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XTRAIA XT Series (Fab)
High-resolution, non-destructive wafer defect visualization for semiconductor manufacturing
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