基于全谱拟合精修的XRD分析
全谱拟合结构精修由 Hugo Rietveld 发明，目前已被广泛认可为对几乎所有无法获得单晶的晶体材料进行结构分析的极有价值的方法。
这种软件方法会精修多个参数，包括晶格参数、峰宽与峰形，以及择优取向，以得到一个计算得到的衍射图谱。一旦计算得到的图谱与未知样品数据几乎完全一致，就可以获得与该样品相关的各种性质，包括精确的定量信息、晶粒尺寸以及晶位占据因子。
精修图谱的过程计算量大，对多组分混合样品进行计算通常需要几分钟。与传统定量方法相比，Rietveld 精修的优势在于无需标准样品。
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