高分辨率XRD的用途是什么？
外延层晶格参数测量
X射线衍射技术在外延层及其他薄膜材料的研究中具有重要价值。通过精密晶格参数测量方法，可高精度测定外延层与衬底之间的晶格失配情况。这种晶格参数的匹配或失配是外延器件的关键影响因素，例如用于磁泡存储器的磁性石榴石薄膜、用于LED与高速晶体管的掺杂砷化镓薄膜、红外探测器及其他重要电子器件。XRD在薄膜研究中的另一重要应用是：借助高温衍射仪绘制晶格参数随温度的变化曲线，即可测定材料的热膨胀系数。
高分辨率X射线摇摆曲线通常用于精确测定外延合金薄膜的成分与厚度。上述信息可通过基于X射线动力学衍射理论对实测摇摆曲线进行模拟和/或拟合来获得。理学SmartLab衍射仪凭借其可变分辨率光学系统设计，成为此类应用的理想选择。SmartLab光学系统采用模块化设计，用户可便捷选配并插入不同的光学元件，例如用于入射光束的Ge(220)×2、Ge(220)×4、Ge(400)×2或Ge(440)×4单色器，以及用于衍射光束的Ge(220)×2分析器。这些光学模块可由控制计算机自动识别并完成准直。此外，衍射光束还提供自动可变接收狭缝选件。
