IWN 2026に出展します

リガクブースにぜひお立ち寄りください

2026年11月8日～13日｜熊本城ホール｜熊本県熊本市

X線評価技術で切り拓く窒化物半導体イノベーション

IWN 2026 では、GaN、AlN、および次世代窒化物半導体デバイスの研究開発を加速するリガクの先進X線評価ソリューションをご紹介します。 リガクのソリューションは、以下の評価・解析をサポートします。

• 結晶品質評価
• 欠陥解析およびX線トポグラフィ
• エピタキシャル層評価
• 表面汚染・不純物管理
• ウェーハ方位測定

注目の技術発表

Growth on AlN Nanopillars: Inverse Lattice Map, Non-Destructive Analysis Using SmartLab
（AlNナノピラー成長における逆格子マップ解析とSmartLabによる非破壊評価）

発表者：山本 泰司 氏
　　　　リガク XRD Application Scientist

GaNおよびAlN材料の評価、結晶欠陥解析、エピタキシャル層評価からデバイス開発まで、窒化物半導体研究を支えるリガクの最新ソリューションをぜひ会場でご覧ください。

みなさまのご来場を心よりお待ちしております。