Rigaku logo
半導体計測装置

半導体評価用波長分散型蛍光X線分析装置

薄膜の柔軟な元素分析 

測定可能な元素：Be-U

リガクシステムは、B、C、N、O、Mg、Alなどの超軽元素を高分解能で簡単に測定できます。

分析可能な構造：最大20層の積層膜を効率的に分析

FP法は他の層による吸収を考慮できるため、複雑な化合物や多層構造のサンプルの分析がシステムの大きな強みです。

定量法：高度なFP法が利用可能

FP（基本パラメーター）法により、膜厚と組成の分析を1つのレシピで行うことができます。

分析可能な膜厚：サブオングストロームからミクロンレベル

リガクのシステムは高出力X線管（4 kW）を使用しており、ほとんどの元素に対して複数のスペクトルを選択できます。そのため、幅広い厚さのサンプルに適用できます。 

 

製品一覧

波長分散型蛍光X線（WDXRF） 分析装置の特長

測定可能元素

ホウ素（B）などの超軽元素からウラン（U）まで、幅広い元素を測定できます。B、C、N、O、Mg、Al といった軽元素についても、高いエネルギー分解能での分析が可能です。

定量解析手法

高度なファンダメンタルパラメータ（FP）法を用いた定量解析に対応しています。1つのレシピで膜厚と組成を同時に解析できるため、測定・解析プロセスの効率化を実現します。

解析可能な膜厚範囲

サブオングストロームからミクロンオーダーまで、幅広い膜厚の解析が可能です。 4 kW の高出力X線管と、元素ごとに複数のスペクトル線を選択できる設計により、多様な薄膜条件に対応します。

解析可能な構造

最大20層までの多層構造を効果的に解析できます。FP法では他層による吸収効果を考慮できるため、複雑な化合物や多層膜構造においても高精度な解析が可能です。

軽元素の高感度分析

炭素（C）、窒素（N）、酸素（O）、フッ素（F）などの軽元素を高感度に検出・定量化できます。半導体製造や環境分析など、これらの元素が重要な役割を果たすアプリケーションにおいて有効です。軽元素を高精度に測定することで、材料の包括的な特性評価が可能となり、厳格な品質基準への適合を支援します。

低バックグラウンド・高分解能

複雑な試料に対しても高い精度と信頼性を備えた分析が可能。低バックグラウンドにより、目的試料由来の信号を明瞭に取得でき、不要な信号の影響を最小限に抑えます。また、高分解能な分析性能により、各成分を正確に識別・定量化でき、幅広い分析ニーズに対応します

お問い合わせ

製品選びから据付後の技術サービスまで、何でもお気軽にお問い合わせください。

営業にお問い合わせ
修理・サポートのお問い合わせ
営業所一覧