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SEMICON Japan2026_image_JP
展示会名
SEMICON Japan 2026

日程・会場
2026年12月9日~11日
東京ビッグサイト

ブース番号
シルバースポンサー
ブースNo. E2433
主な計測技術
XRF · XRD · XRR · SAXS · TXRF ·
X線イメージング

半導体製造を支える、リガクのX線計測

重要な層の状態を、
正確に捉える。

微細化や3D化、異種デバイスの集積が進む半導体では、表面だけでは捉えきれない課題が増えています。リガクは、長年培ってきたX線分析技術と量産ラインに対応する自動化技術で、性能や歩留まりに影響する組成・結晶構造・膜厚・金属汚染を評価します。

75+
年以上にわたり培ったX線技術
300 mm
量産ラインに対応する製品群
非破壊分析
内部構造も非破壊で
評価
Lab to Fab
研究開発から量産までを一貫して支援
展示製品

デバイス開発・製造を支える計測ソリューション

IoTデバイスから先端ロジック・メモリ、先端パッケージング、パワー半導体まで、幅広い計測ソリューションを紹介。


半導体バリューチェーン全体を支援 

材料解析から、信頼性の高いプロセス制御へ。技術開発から量産まで、各工程に合わせた計測ソリューションを提供します。

材料や工程、製造環境に合わせた最適なソリューションを、リガクのアプリケーションスペシャリストがご提案します。非破壊X線分析で、開発の効率化と歩留まり向上に貢献します。

リガクブース(E2433)で、ぜひお気軽にご相談ください。

SemiconJapan image 2_JP_v2

 

IoTデバイス

IOTデバイス · WDXRF

AZX 400 & WDA-3650

開発から量産まで、さまざまな膜種・膜厚の分析に対応。

IOTデバイス· XRF

XHEMIS EX-2000

200 mmウェーハの膜厚測定システム。薄膜プロセスの開発から品質管理まで幅広く対応。

先端デバイス

先端デバイス - TXRF

TXRF-V310

300 mmウエハの金属汚染を監視し、VPD法による汚染分析にも対応。

先端デバイス - TXRF

XHEMIS TX-3000

高性能ハードウェアとAI解析の融合により、総合分析性能が最大6倍に向上。

先端デバイス - WDXRF

WaferX 310

先端デバイスのプロセス管理に向けた膜厚測定に対応。

先端デバイス - X-ray metrology

XTRAIA MF Series

インライン組成分析とX線計測で、半導体プロセスの管理を支援。

先端デバイス - XRD / XRR

XTRAIA XD-3300

半導体向けインラインXRD/XRRで、SiGe膜厚測定などに対応。

先端デバイス - SAXS

XTRAIA CD Series

GI-SAXS、LE GI-SAXS、T-SAXSで、パターン構造や深孔を非破壊で測定。

先端パッケージング

先端パッケージング - マイクロスポット XRF

ONYX 3200

デュアルビームX線光学系で、微小領域の膜厚・組成を測定。

先端パッケージング - X線イメージング

XHENA AX-3000

マイクロバンプやTSVの欠陥を非破壊で検査。

先端パッケージング - X線CT

CT Lab HR160

複雑なパッケージ構造を高分解能で3D検査。

パワーデバイス

パワーデバイス - TXRF

TXRF3760 &
XHEMIS TX-2000

SiCデバイスの評価や、次世代デバイスの汚染分析に対応。

パワーデバイス - X-ray metrology

WDXRF & XRTmicron

ドーパント濃度・膜厚の測定から、高度なX線トポグラフィーまで対応。

パワーデバイス - XRD

XTRAIA XT / TF / OR

開発から量産まで、XRDマッピングや品質管理、結晶方位評価を支援。

個別相談を予約する(事前予約フォーム)

リガクブース内の個別相談コーナーでは、各分野の専門家が分析に関するお悩みに丁寧にお応えします。リガク製品をお使いの方はもちろん、他社製品をご利用中の方や、初めて分析を行う初心者の方など、どなたでもお気軽にご相談ください。

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