粉末X線回折法 基礎講座 第6回 結晶子サイズ評価
小西 真晶
54巻1号通巻119号(2023年4月) , 12-16
粉末X線回折(PXRD)は、単一の情報だけではなく、多様な情報を得ることができる分析手法です。粉末X線回折基礎講座の第5回では定量分析について解説しました。本稿では第6回として、結晶子サイズ(crystallite size)の評価について説明します。
結晶子サイズの評価によく用いられる手法の一つがシェラー法(Scherrer法)です。この手法では、結晶子サイズ分布や格子ひずみが存在しないと仮定し、シェラーの式を用いて単一の回折ピーク幅から結晶子サイズを算出します。正確な結晶子サイズを得るためには、装置由来のピーク幅を補正するために、標準試料を測定しておく必要があります。
一方、FP法(Fundamental Parameter法) を用いた結晶子サイズ評価では、装置由来のピーク幅を理論的に計算して補正することができます。この手法では、光学系の条件や使用する装置に依存することなく、300 nm以下の結晶子サイズを数nmレベルの精度で解析することが可能です。また、100~300 nm程度の比較的大きな結晶子についても、高精度に結晶子サイズおよびその分布を求めることができます。さらに、結晶子の異方性を考慮した評価も可能です。
主なポイント
- 結晶子サイズは粒子サイズとは異なります。 結晶子サイズとは、回折に寄与する単一の結晶ドメインの大きさを指し、結晶子が小さくなるほど回折ピークは広がります。
- ピークの広がりは結晶子サイズだけで決まるわけではありません。 格子ひずみによってもピークは広がるため、ひずみの影響を考慮しない場合、結晶子サイズを実際よりも小さく見積もってしまうことがあります。
- シェラー法は簡便で広く利用される手法です。 ただし、装置由来のピーク幅を正確に補正する必要があり、結晶子サイズが約100 nmを超えると精度が低下しやすくなります。
- FP法(Fundamental Parameter法)は、装置の影響を理論的に補正できる手法です。 光学系や装置条件への依存が小さく、100~300 nm程度の比較的大きな結晶子についても高い精度で評価できます。
- FP法では結晶子サイズだけでなく、サイズ分布や異方性の評価も可能です。 例えば、酸化亜鉛(ZnO)のように結晶成長方向によって結晶子サイズが異なる場合でも、その違いを解析することができます。
要約
XRDにおける結晶子サイズとは、回折時に単結晶のように振る舞う領域の大きさを指します。これは粒子サイズとは異なる概念で、1つの粒子の中に複数の結晶子が存在する場合もあります。一般に、結晶子サイズが小さくなるほど回折ピークは広がります。
ただし、ピークの広がりは結晶子サイズだけが原因ではありません。格子ひずみや装置由来の広がりも影響するため、これらを適切に補正しなければ、結晶子サイズを正しく評価することはできません。シェラー法は最も簡便な手法であり、特に100 nm以下の小さな結晶子の評価に広く用いられますが、結晶子サイズが大きくなるにつれて精度は低下します。
より高精度な評価には、FP法(Fundamental Parameter法) が用いられます。FP法では装置の寄与を理論的にモデル化し、回折プロファイル全体を用いて解析を行うため、100~300 nm程度の比較的大きな結晶子についても高精度な評価が可能です。また、結晶子サイズ分布の推定や、結晶方位による成長の違い(異方性)の評価にも対応できます。
さらに、本稿で紹介したFP法による結果は、SEM、レーザー回折法、USAXSによる測定結果とも良好に一致しており、その有効性が確認されています。
よくある質問
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結晶子径とは、回折に対して単結晶のように振る舞う最小の結晶領域の大きさを指します。これは粒子径とは必ずしも同じではありません。例えば、ナノ粒子は1つの結晶子から構成されている場合がありますが、より大きな粒子では、複数の結晶子が集まって1つの粒子を形成していることがあります。そのため、粒子径が大きくても結晶子径は小さい場合があります。XRDでは、一般に結晶子径が小さくなるほど回折ピークが広がるため、このピーク幅の情報を利用して結晶子径を評価することができます。
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結晶子が小さくなると、回折に関与する結晶面の数が増加するため、回折ピークは広がります。そのため、ピーク幅の広がりは結晶子サイズが小さいことを示す重要な手がかりとなります。ただし、ピークの広がりが必ずしも小さな結晶子だけを意味するわけではありません。格子ひずみや装置由来の広がりによってもピークは広くなるためです。そのため、ピーク幅だけから結晶子サイズを判断すると、実際よりも小さく評価してしまう場合があります。結晶子サイズを正確に求めるためには、装置の影響やひずみの影響を考慮した解析を行うことが重要です。例えば、シェラー法では装置幅の補正を行い、FP法では装置の寄与をより厳密に分離して評価します。
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結晶子径以外でピーク幅に影響する代表的な要因は、格子ひずみと装置由来の広がりです。格子ひずみが存在すると、結晶内の面間隔(d値)がわずかにばらつくため、異なるd値からの回折が重なり合い、ピークが広がります。また、実際に観測されるピーク幅には、X線源、光学系、検出器などに起因する装置の影響も含まれています。そのため、測定されたピーク幅は、結晶子径・格子ひずみ・装置由来の広がりが重なった結果となります。結晶子径を正確に評価するためには、装置幅を補正するとともに、必要に応じてひずみの影響も考慮することが重要です。
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シェラー法は、比較的小さな結晶子を簡単かつ迅速に評価したい場合に有効な手法です。特に、格子ひずみの影響が小さく、装置由来のピーク広がりが標準試料によって適切に補正されている場合に、良好な結果が得られます。一般的には、結晶子サイズが約100 nm以下であれば比較的信頼性の高い評価が可能です。一方、結晶子サイズが大きくなるとピーク幅の変化が小さくなるため、測定誤差や装置幅の影響を受けやすくなり、精度は低下します。そのため、大きな結晶子の評価にはFP法などのより高度な解析手法が適しています。
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格子ひずみによるピークの広がりは、一般に回折角が大きくなるほど顕著になります。そのため、低角度側のピークを用いることで、ひずみの影響を受けにくくなり、結晶子サイズによる広がりをより正確に評価することができます。一方、格子ひずみそのものを評価したい場合には、高角度領域のデータが有効です。ひずみの影響がより強く現れるため、結晶子サイズとひずみの寄与を分離して解析しやすくなります。
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幅標準試料は、試料の影響ではなく、装置由来のピーク幅の広がりを評価するために使用されます。NIST LaB₆などの標準試料を実際の測定と同じ条件で測定し、その結果から装置による広がりを求めます。シェラー法では、観測されたピーク幅から装置由来の広がりを補正したうえで結晶子サイズを計算します。この補正を行わない場合、装置の影響を結晶子サイズの効果として誤って解釈してしまい、結晶子サイズを正しく評価できない可能性があります。そのため、信頼性の高い結晶子サイズ評価には、幅標準試料を用いた装置広がりの補正が重要です。
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FP法(Fundamental Parameter法)は、単一のピーク幅だけを用いるのではなく、装置の光学系やX線源の影響を物理モデルに基づいて計算し、回折プロファイル全体を解析する手法です。そのため、装置由来のピーク広がりをより正確に分離することができます。この結果、スリット条件や装置の違いによる影響を受けにくく、シェラー法では評価が難しい100~300 nm程度の比較的大きな結晶子についても、高い精度で評価することが可能です。また、結晶子サイズ分布や異方性の解析にも対応できます。
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はい。FP法(Fundamental Parameter法)による全パターンフィッティングを用いることで、単一の結晶子径だけでなく、結晶子サイズ分布や異方性を評価することができます。例えば、結晶が特定の方向に優先的に成長している場合、結晶子径は方向によって異なります。酸化亜鉛(ZnO)の例では、c軸方向の結晶子径がa軸方向よりも大きく、結晶子が球状ではなく方向依存的に成長していることが確認されています。
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