XTRAIA XD-2000R
多層膜・EUVマスク・先端薄膜用途の高精度 非破壊 XRR計測システム
XTRAIA XD-2000Rは、X線反射率(XRR)を用いて薄膜の特性を極めて高精度に測定するための計測システムです。半導体製造におけるEUVマスクや先端薄膜構造の評価に特化して設計されています。
主な特長:
- 多層膜の膜厚および密度の特性評価
- 表面および界面の粗さをサブナノメートル精度で測定
- 自動化された非破壊ワークフロー
- 半導体およびフォトマスク用途向けに最適化された設計
XTRAIA XD-2000Rは、広範囲なサンプルマッピングに対応し、高速かつ信頼性の高い測定結果を提供します。高度な光学部品を搭載し、品質保証やプロセス開発環境において優れた性能を発揮します。
XTRAIA XD-2000R 概要
XTRAIA XD-2000R は、先進的な X 線反射率(XRR)測定のために設計された高精度な計測システムです。 このシステムは、膜厚、密度、そして表面・界面の粗さを比類のない精度で解析します。 半導体および EUV マスク用途向けに特化して設計されており、高スループットかつ詳細な解析が求められる状況下での多層膜の特性評価に最適です。
XTRAIA XD-2000R 特長
膜厚、密度、表面/界面の粗さを測定
EUVマスク(SEMI P37/P38-1102)に対応
膜厚測定範囲:1~400 nm
X線ビームの断面サイズ:0.1 mm × 10 mm以上
半径100 mm以内のマッピングに対応
レーザーによるアライメントを用いたレシピによる自動操作
オプションで多角度および拡張深度解析に対応
XTRAIA XD-2000R 仕様
| 手法 | 高分解能X線反射率測定(HRXRR) | |
|---|---|---|
| 感度 | サブナノメートルスケールでの解析 | |
| 対応サンプル | EUVマスク対応(SMIF互換フォーマット) | |
| 測定項目 | 膜厚、密度、界面粗さの測定 | |
| 分解能 | 垂直方向の分解能:サブナノメートル | |
| 優位性 | 多層膜および界面の高精度な特性評価 | |
| 自動化 | レシピ設定による完全自動化操作 | |
| テクノロジー | ゴニオメータ搭載、HyPix検出器および多層光学系を採用 | |
| 適合規格 | GEM300、SEMI S2/S8、CE、NFPA、EU指令に準拠 | |
| スループット | 測定ポイントあたりの所要時間:約15分 | |
| 主要特性 | 非破壊解析と高度なデータ解釈機能 | |
| 主要機能 | 高精度な薄膜計測と粗さプロファイリング | |
| オプション | 多角度XRR、拡張マスク対応、高度な解析ソフトウェア | |
| 測定結果 | 反射率プロファイル、膜厚、粗さ、密度の測定結果を提供 | |
XTRAIA XD-2000R オプション
- 多角度反射率測定
- カスタム検出器
- 環境制御モジュール
- 拡張マスク対応
以下のアクセサリーが、この製品で使用できます。
XTRAIA XD-2000R イベント
学会や展示会にご参加の際は、リガクの展示ブースにぜひお立ち寄りください。
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イベント日付場所ウェブサイト
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The 2026 IEEE 76th Electronic Components and Technology Conference2026年5月26日 - 2026年5月29日Orlando, Fl, USA
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CEIA Leti Innovation Days2026年6月23日 - 2026年6月25日Maison Minatec, Grenoble, France
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The International Workshop on Gallium Oxide and Related Materials (IWGO-6)2026年8月2日 - 2026年8月7日College Park, MD, USA.
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SEMICON Taiwan 20262026年9月2日 - 2026年9月4日Taipei, Taiwan
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応用物理学会秋季学術講演会2026年9月8日 - 2026年9月11日北海道大学 札幌キャンパス(北海道・札幌市)
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ICSCRM20262026年9月27日 - 2026年10月2日パシフィコ横浜 ノース
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SEMICON West 20262026年10月13日 - 2026年10月15日San Francisco, CA, USA
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SEMICON Europa2026年11月10日 - 2026年11月13日Munich, Germany
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SEMICON Japan 20262026年12月9日 - 2026年12月11日東京ビッグサイト
XTRAIA XD-2000R