TXRF-Spektrometer
Die Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF) ist eine leistungsstarke Analysetechnik zur Element-Analyse von Proben mit sehr geringen Konzentrationen an Spurenelementen. Bei der TXRF wird ein primärer Röntgenstrahl in einem sehr flachen Winkel auf eine Probe gerichtet, wodurch eine Totalreflexion an der Probenoberfläche entsteht. Dies führt zu einer stehenden Röntgenwelle innerhalb einer dünnen Schicht der Probe, wodurch die Wechselwirkung zwischen den Röntgenstrahlen und dem Probenmaterial maximiert wird. Die von der Probe als Reaktion auf diese Anregung emittierte Fluoreszenz wird dann detektiert und analysiert, um die Elementzusammensetzung und -konzentration zu bestimmen. TXRF ist besonders vorteilhaft für die Analyse von flüssigen Proben oder sehr kleinen Probenmengen, da es eine hohe Empfindlichkeit, ausgezeichnete Reproduzierbarkeit und niedrige Nachweisgrenzen bietet, was es zu einem unschätzbaren Werkzeug in Bereichen wie der Umweltüberwachung, Nanotechnologie und Halbleiteranalyse macht.
Produkte
TXRF 3760
TXRF-Spektrometer zur Wafer-Oberflächenkontaminationsanalyse für Wafer bis zu 200 mm.
Mehr erfahrenTXRF 310Fab
TXRF-Spektrometer zur Wafer-Oberflächenkontaminationsanalyse für Wafer bis zu 300 mm.
Mehr erfahrenTXRF-V310
TXRF-VPD-Spektrometer zur Wafer-Oberflächenkontaminationsanalyse für Wafer bis zu 300 mm.
Mehr erfahrenAnwendungshinweise
Sehen Sie sich die Beispielanalysen an, um herauszufinden, welche Analysetechnik für Sie die richtige ist.
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RSMD005 - Surface Contamination of SiC, GaN Power Device Wafers
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RSMD001 - Evaluation Of Wet Cleans In SiC Power MOSFET Fabrication By TXRF
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