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TXRF-Spektrometer

Die Totalreflexions-Röntgenfluoreszenzspektroskopie (TXRF) ist eine leistungsstarke Analysetechnik zur Element-Analyse von Proben mit sehr geringen Konzentrationen an Spurenelementen. Bei der TXRF wird ein primärer Röntgenstrahl in einem sehr flachen Winkel auf eine Probe gerichtet, wodurch eine Totalreflexion an der Probenoberfläche entsteht. Dies führt zu einer stehenden Röntgenwelle innerhalb einer dünnen Schicht der Probe, wodurch die Wechselwirkung zwischen den Röntgenstrahlen und dem Probenmaterial maximiert wird. Die von der Probe als Reaktion auf diese Anregung emittierte Fluoreszenz wird dann detektiert und analysiert, um die Elementzusammensetzung und -konzentration zu bestimmen. TXRF ist besonders vorteilhaft für die Analyse von flüssigen Proben oder sehr kleinen Probenmengen, da es eine hohe Empfindlichkeit, ausgezeichnete Reproduzierbarkeit und niedrige Nachweisgrenzen bietet, was es zu einem unschätzbaren Werkzeug in Bereichen wie der Umweltüberwachung, Nanotechnologie und Halbleiteranalyse macht.

Produkte

TXRF 3760

TXRF-Spektrometer zur Wafer-Oberflächenkontaminationsanalyse für Wafer bis zu 200 mm.

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TXRF 310Fab

TXRF-Spektrometer zur Wafer-Oberflächenkontaminationsanalyse für Wafer bis zu 300 mm.

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TXRF 310Fab-R

Fortschrittliches Tool zur Analyse von Spurenelementverunreinigungen

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TXRF-V310

TXRF-VPD-Spektrometer zur Wafer-Oberflächenkontaminationsanalyse für Wafer bis zu 300 mm.

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Anwendungshinweise

Sehen Sie sich die Beispielanalysen an, um herauszufinden, welche Analysetechnik für Sie die richtige ist.

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