パワーデバイス裏面電極の膜厚評価
パワーデバイスの裏面電極では、金属薄膜の膜厚および面内均一性が、電気特性や信頼性に大きく影響します。WDXRF（波長分散型蛍光X線）を用いることで、裏面電極を構成する多層金属膜の膜厚を非破壊かつ高精度に評価できます。
高出力（4 kW）X線源と FP（Fundamental Parameter）法により、最下層の Al 層を含む すべての層を同時に評価できる点が大きな特長です。
WDXRFで測定可能な元素
| X Y | Au | Ni | Ti | Al |
| nm | nm | nm | nm | |
| Average (nm) | 49.3 | 551.3 | 198.2 | 89.5 |
| Maximun (nm) | 50.4 | 557.3 | 201.2 | 91.1 |
| Minimun (nm) | 48.1 | 544.8 | 195.3 | 87.9 |
| Range (nm) | 2.3 | 12.5 | 5.9 | 3.23 |
| Sigma (nm) | 0.90 | 3.59 | 1.61 | 0.87 |
| RSD (%) | 1.82 | 0.65 | 0.81 | 0.97 |
