フォトマスク・レチクル工程に革新をもたらすX線計測
歩留まり向上、欠陥低減、そして次世代リソグラフィーへの加速を実現
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高精度・非破壊の計測を実現 |
Lab（研究開発）からFab（量産環境）までスケーラブルに対応 |
先端デバイスアーキテクチャに 最適化された設計 |
リガクの最先端X線計測装置は、EUVマスクや高アスペクト比構造に対して、非破壊かつ高精度な解析を実現。
表面汚染から多層膜構造のプロファイリング、ウェーハ全体のマッピングまで、次世代製造に求められる精度と信頼性を提供します。
 XRR X線反射率 |
 TXRF 全反射蛍光X線 |
 TSAX・GISAXS 透過型/ 斜入射小角X線散乱法 (SAXS) |
 XRR・XRD X線反射率・X線回折統合型マイクロスポット解析 |
 パターン認識 パターン認識機能とレシピベース制御システムによる統合 |
| 製品 | 用途 | 詳細 | ウェーハサイズ | リンク |
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XTRAIA XD-2000R
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膜厚 | HRXRD/XRRとハイブリッド光学系を用いた、多層膜および構造化膜の高精度膜厚評価 | EUV Mask 152 x 152 x 6.35 mm |
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XTRAIA MF-3000R
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多目的 | マイクロスポットプラットフォームでレチクルや化合物ウェーハに適した柔軟な薄膜解析 | EUV Mask 152 x 152 x 6.35 mm |
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TXRF 310Fab-R
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表面分析 | マスク表面の汚染および残留物の定量化のための全反射蛍光X線分析（TXRF） | 300 mm | 製品ページをみる |
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XTRAIA CD-3200T
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CD＆形状計測 | フォトマスクおよびウェーハのCD測定と表面形状の高精度測定 | 300 mm | 製品ページをみる |
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XTRAIA CD-3010G
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プロファイル計測 | 先端レチクルおよびリソグラフィー構造の精密なプロファイリングと形状評価 | 300 mm | 製品ページをみる |
