応用物理学会 秋季学術講演会に出展します

ショートセミナーのご案内

表面金属汚染分析によるデバイス信頼性向上へのアプローチ

近年はAI需要の拡大を背景に、光通信デバイス分野でもTXRFへの関心が高まっています。本セミナーでは、表面金属汚染を分析する全反射蛍光X線分析装置 TXRF3760をご紹介します。

日時： 9月10日(木) 17:15～
会場：S5 (総合教育棟 S講義棟)
講演：株式会社リガク
内容：表面金属汚染分析装置 TXRF3760 の装置概要紹介

皆様のご参加を心よりお待ちしております。

出展製品 － 半導体向けアプリケーション

薄膜、先端パッケージ、プロセス開発に対応する高精度メトロロジー

薄膜・エピタキシャル層・ウェーハスケール測定において高精度な構造評価を提供します。研究用途からインライン環境まで対応し、測定精度を維持しながらデバイス開発を可能にします。

出展製品 − 材料分析向けアプリケーション

研究・教育・産業材料開発に対応する柔軟なXRDプラットフォーム

コンパクトな卓上型から全自動の研究向けシステムまで、幅広い用途で高精度な構造解析を可能にします。

主な適用分野

• 機能性材料・エネルギー材料研究
• 薄膜・コーティング
• セラミックス、鉱業、粉末材料
• 大学・産業ラボ