XHEMIS TX-3000

TXRFスペクトロメーター

超高速金属汚染マッピング

300mmウェーハまで対応

XHEMIS TX-3000 概要

典型元素の検出限界(LLD)

検出限界LLD (E10原子/cm²) Al Fe Ni Cu
TXRF 14 0.06 0.06 0.09

計測時間:1000秒  

XHEMIS TX-3000 仕様

手法 全反射蛍光X線分析 (TXRF)
用途 微量元素の表面汚染(Na - U)の高速かつ非破壊での測定
マッピング速度の約3倍の改善
E9原子/cm²の検出限界
テクノロジー 高感度金属汚染分析
主要コンポーネント 3検出器構成
高出力W対陰極X線源(9 kW回転対陰極)
軽元素、遷移元素、重元素に最適化された3つの励起エネルギー
XYθ試料ステージ
2つのFOUPロードポート
特徴 フルウェーハマッピング(SWEEPING-TXRF)、ゼロエッジ除外(ZEE-TXRF)
オプション バックサイド解析(BAC-TXRF)、GEM300ソフトウェア、E84/OHTサポート
本体寸法 1280 (幅) x 3750 (奥行き) x 2040 (高さ)
(モニターと信号塔を除く)
測定結果 定量結果、スペクトルチャート、カラーコンターマップ、マッピングテーブル

XHEMIS TX-3000 イベント

学会や展示会にご参加の際は、リガクの展示ブースにぜひお立ち寄りください。

現在予定されているイベントはありません。

お問合せ

製品選びから据付後の技術サービスまで、何でもお気軽にお問合せください。