塗層與薄膜
從塑膠基矽膜到半導體晶圓堆疊
現代生活的各方面都受益於塗層與薄膜技術。無論是整合電路芯片中的阻擋層薄膜,還是鋁製飲料罐表面的轉化塗層,X光分析技術都是此類材料研發、生產過程控制和品質保障中不可或缺的一部分。X光螢光技術(XRF)可用於測定金屬塗層的厚度和元素組成。
X光反射技術(XRR)是半導體製造過程中的常用計量工具,用於測量多層塗層堆疊結構中各層厚度,還可以表徵表面粗糙度和層間擴散等其他塗層特性。X光繞射(XRD)和相關技術已成為奈米技術研究的主要推動力,可用於解析薄膜的分子結構特徵。憑藉先進的技術和豐富的經驗,理學為塗層和薄膜測量提供多種無損分析解決方案。
應用說明
探索成功應用案例,選出最佳分析技術
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XRD2001 - Orientation and Residual Stress Evaluation in Metal Thin Films
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EDXRF3269 - NEX QC II - Silicone Coat Weight on Paper and Plastic
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EDXRF1990 - NEX QC—Plating Baths
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EDXRF1904 - NEX QC+—Chromium on HDG Steel
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EDXRF1834 - NEX QC+—Titanium on Steel
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EDXRF1812 - NEX QC+—Phosphorus on Steel
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EDXRF1720 - NEX DE VS—Electroless Nickel Plating
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EDXRF1631 - NEX QC+—Zirconium on Aluminum
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EDXRF1630 - NEX QC—Zirconium on Aluminum
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EDXRF1620 - NEX QC—Titanium on Aluminum
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EDXRF1619 - NEX QC+—Titanium on Aluminum
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EDXRF1606 - NEX QC+—Chromium on Aluminum
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EDXRF1605 - NEX QC—Chromium on Aluminum
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EDXRF1559 - NEX QC+—Low Silicone Coating on Plastic
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EDXRF1422 - NEX QC+—Silicone Coating on Paper and Plastic
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EDXRF1140 - NEX QC—Silicone Coating on Paper and Plastic
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B-XRD2039 - Observation of Anisotropic and Nonlinear Thermal Expansion of Thin Films on Substrates by In-Plane X-ray Diffraction
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B-XRD2037 - Evaluation of Native Oxide Film on Larger-diameter Silicon Substrates Using High-precision Thin Film XRD for Advanced Research
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