ZSX Primus IVi
走査型蛍光X線分析装置
下面照射タイプの走査型蛍光X線分析装置
アプリケーションの共有化が容易
上面照射タイプZSX Primus IV と下面照射タイプZSX Primus IVi とのハード・ソフトウェアの共通プラットフォーム化によって両機種および同じ機種間でアプリケーションの共有化が容易に行えます。
ZSX Primus IVi 概要
高度な自動判断機能を搭載したSQX分析
SQX分析は定性分析結果を用いて定量分析を行うスタンダードレスFP分析です。
・重元素から発生する高次線の影響を評価し、最適な測定条件を自動選択して、より正確なSQX分析を実現
・EZスキャンに微量元素を検出する定角測定設定モードを追加
・EZスキャンに測定時間2分以内の超高速モードを搭載
・多層膜試料のスクリーニング分析に対応
・任意の試料フィルムを試料フィルム補正に追加可能
・SQX散乱線FP分析(粉末・ポリマー用)が30mm径にも対応
・SQX再計算時にSQX散乱線FP分析への変更が可能
ヘリウム雰囲気への迅速な置換
試料室と分光室の間に真空隔壁を追加することによりヘリウム雰囲気への置換時間を短縮できます。また、液体試料ホルダー検出機構の追加により真空雰囲気へ液体試料を導入間違いがなくなり安心して測定できます。
軽元素用ガスシールド型プロポーショナルカウンター S-PC LE
ガスシールド型検出器で分析におけるガス排出はゼロ。 検出器用ガスボンベは設置不要です。
WDXシステムによるポイント/マッピング分析
r-θ駆動の試料ステージ採用で測定ポイントによるＸ線強度変化が生じることなく、100 μmのマッピング位置分解能で、プリント基板上の配線などの分析や各種材料の介在物などの微小部分析が可能です。
ZSX Primus IVi 特長
ZSX PrimusIVで培ったハード、ソフトの最新技術を基に、更なる性能、機能の向上を実現した下面照射タイプの走査型蛍光Ｘ線分析装置です．液体試料は試料フィルムを張った試料セルに注ぎ込むだけで容易に測定できます。また、ディスク状の合金、メッキ板、ガラス板などの試料は測定面を下にしてそのまま試料ホルダーに置くだけで容易に測定ができます。加圧成形が困難な粒子状試料、少量試料、破片状小径試料等に対しては、試料セルのフィルムの上にそのままセットし、貴重な試料に試料処理加工をしない測定も容易です。高解像度カメラにより試料画像を観察しながら分析位置指定やマッピング測定ができます。
ZSX Primus IVi 仕様
| 製品名 | ZSX Primus IVi | |
|---|---|---|
| 手法 | 波長分散蛍光Ｘ線分析（WDXRF） | |
| 用途 | 固体、液体、粉末、合金および薄膜の元素分析 | |
| テクノロジー | 走査型 波長分散蛍光Ｘ線分析（WDXRF） | |
| 主要コンポーネント | Rhターゲット4kWまたは3kW、 試料交換機最大60試料 | |
| 主なオプション | He置換、r-θ駆動の試料ステージ、ポイント/マッピング分析、試料観察機構 | |
| 制御(PC) | 外部PC、MS Windows® OS、ZSX Guidance ソフトウェア | |
| 本体寸法 | 840 (W) x 1250 (H) x 980 (D) mm | |
| 重量 (本体) | 500 kg | |
| 電源 | 三相 200V、40 A、 50/60 Hz | |
ZSX Primus IVi アプリケーションノート
ZSX Primus IVi イベント
