XTRAIA XT シリーズ (Fab)

研究開発から量産ラインまで幅広い用途に対応するXRTmicronシリーズにおいて、 XTRAIA XTシリーズは 製造現場のワークフローにスムーズに組み込むための設計がなされています。クリーンルーム環境に対応し、厳格なコンタミネーション管理基準を満たしています。アライメント、光学部品の切り替え、画像取得といった機能の自動化によって、作業者の負担やばらつきを大幅に軽減します。

シリコンはもちろん、SiC、GaN、InP、GaAs、AlN、Ga₂O₃といった先端の化合物半導体にも対応し、メモリ、ロジック、パワーデバイス、フォトニクス、RF、センサーなどの先端アプリケーションに求められる分解能と再現性を提供します。

XTRAIA XTシリーズは、半導体製造現場において、転位やスリップラインなど、デバイス性能に影響を及ぼす結晶欠陥を可視化する強力なツールです。最大300 mmのウェーハに対応しており、量産時の一貫した歩留まり管理を可能にします。

• 高分解能・高速フルウェーハ イメージング
• パーティクルや金属によるコンタミネーションを抑制した非破壊測定
• インライン品質管理や研究開発に柔軟に対応する自動化システム
• シリコン、SiC、GaN、InP、GaAs、AlN、Ga₂O₃など幅広い材料に対応
• SEMI規格（S2、S8）に準拠
• SECS/GEMおよびGEM300に準拠