XRTmicron Lab

ハイスループット&高分解能X線トポグラフイメージングシステム

非破壊で転位などの結晶欠陥、表面への貫通転位やエピタキシャル層の欠陥などを検出

新しい高輝度微小X線光源とそれに合わせた特殊X線ミラー光学系および高解像度・高分解能X線カメラを採用することにより、従来に比して1桁程度測定時間を短縮できるトポグラフ測定システムです。試料のセッティングから測定まで自動で行えます。
非破壊で転位などの結晶欠陥、表面への貫通転位やエピタキシャル層の欠陥などを検出することができます。Si、SiC、GaN、Ge、GaAs、水晶、LN、LT、サファイヤ、ルチル、蛍石、その他さまざまな単結晶材料に適用できます。

XRTmicron system doors closed XRTmicron sample chamber interior

XRTmicron Lab 概要

XRTmicron Labは、結晶成長やエピタキシャル層の形成に関する先端研究を支えるために最適化された装置です。

高分解能・非破壊のX線トポグラフ像によって可視化された結晶試料の欠陥を解析することで、研究者は材料品質を左右するメカニズムの理解を深めることができます。

テストクーポンから300 mmウェーハまでの各種試料のマニュアルハンドリングに柔軟に対応します。様々なサイズや状態の試料に対応する設計で、結晶成長プロセスの検証や欠陥形成初期段階の解析など、ウェーハ以外の形状の試料で行なう実験にも広くお使いいただけます。

XRTmicron Labは、研究者の学術的な知識の深化や新素材の発見をサポートすることで、材料科学の新たな可能性を切り拓き、パワーエレクトロニクスや光デバイスなどの分野における新たな応用技術の礎を築きます。

XRTmicron Lab 特長

幅広い試料に対応
テストクーポン、フルウェーハ、ウェーハ上のエピタキシャル層、結晶インゴット/ブールなど、最大300 mm径までの多様なサンプルに対応
高輝度
MicroMax-007(高輝度2波長X線源)と放物面多層膜ミラーを採用
高性能な検出器
XTOP(5.4 µm/ピクセル)、HR-XTOP(2.4 µm/ピクセル)(オプション)、高速測定用HyPix-3000HE(100 µm/ピクセル)
外力の最小化を考慮した試料配置
ウェーハに重力起因以外の外力を与えない水平試料ホルダー
画像の品質を確保
最適な欠陥可視化のための自動ウェーハ湾曲補正
操作の自動化
アラインメント、検出器および光学系の切り替え、画像収集を含む自動制御
最先端の解析
迅速な結果出力のための自動転位マッピングと評価

XRTmicron Lab 仕様

手法 X線トポグラフイメージング
用途 単結晶材料の非破壊評価
テクノロジー 透過トポグラフと反射トポグラフ切り替え
主要コンポーネント 高輝度微小X線光源、特殊X線ミラー光学系、高解像度・高分解能X線カメラ
オプション HR-XTOPカメラ、結晶コリメータ、XRT Toolboxソフトウェアによる欠陥解析
ウェーハ搬送・試料ハンドリング マニュアルハンドリング

XRTmicron Lab イベント

学会や展示会にご参加の際は、リガクの展示ブースにぜひお立ち寄りください。

  • SEMICON Japan 2025
    2025年12月16日 - 2025年12月18日
    東京ビッグサイト 南ホール

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