TFXRD-200
最大200 mmウェーハのフルマッピング用X線回折（XRD）システム
TFXRD-200は、大口径ウェーハ上の薄膜の測定を目的とした専用のXRDツールであり、薄膜の厚さ、結晶性、化合物材料の組成比、エピタキシャルウェーハの格子緩和などを測定します。
TFXRD-200 概要
選択可能な光学機器を備えた高精度ゴニオメータ
全ての薄膜XRDアプリケーションに適したXRDシステムで、200 mmウェーハまでのマッピングに対応したXY可動ステージを搭載しています。
当システムは、サンプルの損傷がなく状態が保たれることを保証し、追加の実験や分析を問題なく行うことができます。すべての研究開発ニーズに対して最も正確で信頼性の高い結果を提供します。
ニアファブアプリケーション向けのXRDシステムマッピングツール
材料解析の向上、品質管理の強化、および製造プロセスの最適化に使用できます。
薄膜
- 正確な厚さと組成
- 結晶情報
- 応力とひずみ解析
- 非破壊特性評価
- 多層解析
- 先進材料開発
XRR厚さに特化した専門のシステム
薄膜、コーティング、および多層構造の厚さ、密度、および界面粗さを決定します。
GaAs(004)、立方晶GaN(002)、六方晶GaN(0004) 特性評価
電子および光電子デバイスでの要求性能を達成するために、結晶方位の精密な分析および材料の成長と加工を制御します。
TFXRD-200 特長
あらゆる薄膜XRDアプリケーションに対応する選択可能な光学系とマッピング用XY可動ステージを備えた最高精度のゴニオメーター
効率的な計測速度
高分解能測定用の入射モノクロメータ
大型ウェーハの全マッピング
最大200 mmウェーハまで
TFXRD-200 仕様
| 手法 | X線回折（XRD）、ロッキングカーブ（XRC）、および反射率測定（XRR） | |
|---|---|---|
| 用途 | 200 mmウェーハ用のフルマッピングXYステージを備えた高精度ゴニオメータ | |
| テクノロジー | 大型クレードルを備えた高精度θ-2θ水平ゴニオメータ | |
| 主要コンポーネント | ブランケットウェーハの計測技術 最大200 mmウェーハのフルマッピングXYステージ |
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| オプション | PhotonMax高輝度9 kW回転対陰極X線源 Confocal Max-flux 800 W回転対陰極X線源 HyPix-3000高エネルギー分解能2D HPAD検出器 |
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| 制御(PC) | 外部PC、MS Windows OS、SmartLab Studio IIソフトウェア | |
| 本体寸法 | Approx. 1900 (W) x 2200 (H) x 1900 (D) mm | |
| 質量 | 約. 1600 kg | |
| 電源 | 3Ø、200 V、50/60 Hz、30 A（封入管）または60 A（9 kW回転対陰極） | |
TFXRD-200 イベント
