HRXRD プラグイン

エピタキシャル薄膜評価のための逆格子マップ・高分解能ロッキングカーブ統合プラグイン

• 高分解能ロッキングカーブ解析と逆格子マッピング解析ソフトウェア
• 230すべての空間群に対応したロッキングカーブシミュレーション
• 非対称逆格子マップから，歪緩和率と膜組成の同時解析が可能
• 逆格子シミュレーション機能により測定結果へ指数付けが可能
• 歪んだ膜の格子定数の自動計算が可能

逆格子マップと高分解能ロッキングカーブの解析を1つのプラグインで実現しました。化合物半導体などのエピタキシャル薄膜の解析において、結晶方位やひずみ状態を評価する逆格子マップ解析から、膜厚や組成比評価のための高分解能ロッキングカーブ解析まで、シームレスな解析が行えます。

最新の材料系に対応

試料面内の2方向の方位を指定する「アンカーパラメーター」の導入により、面内異方性のある基板材料を用いたエピタキシャル薄膜の解析に対応しました。これにより、面内非等方な応力場における、エピタキシャル薄膜の非等方弾性変形を解析することができます。例えば110面のシリコン基板やr面のサファイア基板などに成膜したエピタキシャル薄膜など、最先端材料への適用が可能です。

優れたピークサーチ・画面表示機能

逆格子マップデータの解析時に頻繁に使用する機能を簡略化しました。逆格子マップデータのゴニオメータ―座標・逆空間座標の表示切替や、2次元データにも適用できる高度なピークサーチ機能が1クリックで実行され、正確な逆格子点座標が簡単に求められます。試料モデルから計算されるシミュレーションを測定データ上に重ねて表示する機能により、測定結果の解釈も容易です。

多様な膜構造モデルに対応

複雑な多層膜構造を有するサンプルでも、パラメーターの層間リンク機能や超格子モデリング機能により、構造モデルをスムーズに作成することができます。歪状態を記述するパラメーターとしては、面内2方向の緩和率・面内歪・格子ミスマッチの3つから選択可能です。多層膜の方位ずれ（傾き・ねじれ）の設定、モザイク性の評価機能も追加しました。各パラメーターの値はスライダーバーによる微調整が可能です。試料プロファイルチャートでは表示色を結晶相ごとに設定することで、複雑な試料構造も視覚的にわかりやすく表示できます。

複数データの同時フィッティング機能

1つの膜構造モデルに対して、反射指数の異なる複数の測定データを、同時にフィッティングする機能を備えました。解析に使用した各測定データ・膜構造モデルは、データ間の関連付けを行った状態でプロジェクトとして保存されるため、解析条件と解析結果の管理が容易です。

正確・迅速なフィッティング解析

フィッティングアルゴリズムとして遺伝的アルゴリズムと最小二乗法を採用しました。束縛条件や上下限設定を行うと、多数のパラメーターを同時にフィッティングしても値が発散しにくく、安定した解析結果が得られます。理論プロファイル計算に4波近似・再帰マトリックス理論などを取り入れることで、すれすれ入射の配置での測定や、完全緩和・部分歪・完全歪といったエピタキシャル薄膜の歪状態が、より正確に再現されます。