非常溫常壓環境條件下的X光繞射（XRD）適用於多種應用領域，尤其是原位動態過程表徵——例如固態反應機理、相變過程追蹤、晶粒生長以及熱膨脹等。XRD是對傳統熱分析技術（如熱重分析、差示掃描量熱法等）的重要輔助，能同步提供材料在變溫過程中的物相鑑定、織構分析與晶粒尺寸等關鍵結構訊息。
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