Qualana
微區X光螢光光譜儀，提供精準可靠的資料
Qualana 有助於降低微區分析中常見的不確定性。透過精準對準目標量測點，並將位置資訊與分析結果相互關聯，使用者可更有把握地依據所得結果進行後續工作。Qualana 也減少了重複量測或以其他技術進行額外驗證的需求，進而支援更快速的根本原因分析。
Qualana 概覽
直接量測目標微區
在微區元素分析中，即使光學觀察點與X光照射點之間存在輕微偏移，也可能影響分析結論。Qualana 的 Vertical3-Axis Targeting 是一種自主研發的光學系統，將低倍率相機、高倍率相機與X光源沿垂直方向對準。結合高精度樣品台控制，可將觀察位置準確引導至X光照射點。這減少了因位置偏移造成的誤判，並將重新對準的工作降至最低，有助於更快找出根本原因。
可追溯的流程，便於說明與驗證
Qualana 不需一開始就對整個樣品進行詳細量測，而是先透過大面積 Mapping 掌握整體概況，再僅針對必要位置進行詳細檢視。這種方式縮短了量測時間，同時降低遺漏重要特徵的風險，協助使用者取得決策所需的資料。由於量測流程可追溯，說明與驗證所需的工作量也隨之減少。
Qualana 功能
直接量測目標微區：偏移最小，不確定性更低。
更有把握地精準分析您所需的區域。傳統系統中，光學觀察角度與X光光束之間存在差異，分析位置會隨樣品高度而偏移；而 Qualana 的 Vertical3-Axis Targeting 光學系統使相機與X光源位於同一條垂直軸線上。
結合高精度樣品台控制，可將您所選區域與X光實際分析區域之間的偏差降至最低。
結合高精度樣品台控制，可將您所選區域與X光實際分析區域之間的偏差降至最低。
可選擇光點尺寸，滿足不同應用需求
藉由 Spot Focus Control，光點尺寸可在 20 至 200 μm 之間選擇，一台儀器即可兼顧大面積 Mapping 與精細的點分析。
所有光點尺寸（20、50、100、150 及 200 μm）皆支援以基本參數法（FP）進行定量分析，可為各種應用提供可靠的結果。
所有光點尺寸（20、50、100、150 及 200 μm）皆支援以基本參數法（FP）進行定量分析，可為各種應用提供可靠的結果。
適用於大尺寸或高度較高樣品的大面積 Mapping
Qualana 可容納最大 220（寬）× 220（深）× 120（高）mm 的樣品，無需重新放置樣品，即可在最大 200 × 200 mm 的範圍（相當於 8 吋晶圓）內完成完整的 XY Mapping。
自動高度調整與防碰撞感測器，即使是較高的樣品也能穩定量測。
自動高度調整與防碰撞感測器，即使是較高的樣品也能穩定量測。
無標準品薄膜分析
Qualana 採用 Rigaku 的基本參數法（FP）技術，該技術建立在 50 多年的X光螢光分析經驗之上。憑藉定量分析所必需的內建靈敏度資料庫，Qualana 無需標準樣品即可評估薄膜的厚度與成分。
由於可在觀察位置直接進行分析且不損傷樣品，Qualana 可為研究、開發及失效分析中的薄膜評估提供高效支援。
由於可在觀察位置直接進行分析且不損傷樣品，Qualana 可為研究、開發及失效分析中的薄膜評估提供高效支援。
銜接大面積 Mapping 與點分析的量測流程
Qualana 軟體支援連續的分析流程：先透過大面積 Mapping 掌握整體概況，再僅針對必要位置進行詳細檢視。
由於 Mapping 結果與後續點分析資料相互關聯並一併儲存，使用者日後可回顧是哪些結果促成了追加量測及其原因。這降低了說明與驗證資料所需的工作量。
由於 Mapping 結果與後續點分析資料相互關聯並一併儲存，使用者日後可回顧是哪些結果促成了追加量測及其原因。這降低了說明與驗證資料所需的工作量。
直覺、即裝即用的軟體
Qualana 軟體操作直覺，可協助操作人員快速上手。樣品裝載、成像、參數設定與量測，只需一個簡潔的四步驟流程即可完成。
Qualana 技術規格
| 產品名稱 | Qualana | |
|---|---|---|
| 技術 | 微區X光螢光（Micro-XRF） | |
| 優勢 | 微區成分與膜厚分析、元素 Mapping 分析 | |
| 特點 | 氣冷式微焦點X光管、多毛細管（polycapillary）聚焦光學元件、矽漂移偵測器（SDD） | |
| 選配件 | 印表機 | |
| 電腦 | PC，MS Windows 作業系統，Qualana Controller 軟體，Qualana Analyzer 軟體 | |
| 外型尺寸 | 1040（寬）x 1315（高）x 810（深）mm | |
| 重量 | 560 kg | |
| 電源需求 | 主機：單相 200-240 V，50/60 Hz，20 A | |
