奈米技術
XRD、XRR與SAXS：奈米尺度表徵的核心技術
奈米技術橫跨生物學、化學、物理學和工程學等眾多研究領域，具有獨特的跨學科特點。該領域的共通性在於對研究對象結構橫向尺寸的關注。奈米技術通常涉及在十億分之一公尺（10⁻⁹米）尺度範圍的材料或其元件的結構特性，其研發工作仰賴於對半導體元件到奈米粉末等各種結構中原子和分子間距的精確測量。由於 X光波長與奈米結構尺度相當，因此 X光繞射（XRD）及相關技術是奈米技術研究的核心手段。X光反射法（XRR）用於測定膜層厚度、表面粗糙度和密度。
高解析度X光繞射可以測量層厚、粗糙度、化學組成、晶格間距、應變弛豫等。X光漫散射用於分析橫向和縱向關聯、畸變、密度和孔隙率。面內低掠角繞射用於研究超薄有機層和無機層的橫向關聯以及深度剖面分析。小角度X光散射（SAXS）可解析固體或溶液中奈米顆粒的尺寸、形狀、分佈、取向和關聯性。理學整合尖端技術與專業知識，為奈米技術應用提供了一系列先進的X光繞射產品。
