材料科學研究

對金屬、陶瓷或塑膠等材料進行表徵和成分分析是材料科學研究中的核心，這些材料是空間科學、國防技術及各類技術或產品應用的基石。理學提供一系列尖端X光分析技術： X光螢光光技術（XRF）用於研究半導體或其他新材料中的元素組成和膜層厚度。X光繞射和散射用於研究晶相、結晶度或晶體結構和取向、織構或殘餘應力。X光形貌術（XRT）用於檢測半導體等先進材料中的晶體缺陷。X光反射技術（XRR）則可用於測量薄膜厚度、表面粗糙度和層間擴散等特性。相關的漫散射法（如 SAXS）廣泛適用於研究生物、化學、物理和工程領域的薄膜、塗層和膜層或顆粒的分子結構特徵。憑藉先進技術和經驗積累，理學為材料研究提供多種先進的無損分析解決方案與專業服務。