NANOHUNTER II

高強度・高感度測定

600Wの高出力Ｘ線源とミラー、大面積SDDにより高感度測定を可能にしました。有害元素であるAs、Se、Cdに対しppbレベルの検出下限を実現しました。

複数の励起条件を選択可能

標準励起条件（Moターゲット）ではAs、Pbなどの有害元素を効率良く励起できます。
2重構造多層膜により高エネルギー励起条件（約30 keV）も使用でき、スペクトルの重なりの少ないCd、AgなどのK線領域を測定線に用いることが可能となりました。

入射角度可変機構により角度分解測定を実現

入射角度を任意に変更する機構により、表面近傍のみならず、深さ方向の元素情報を得ることが可能となりました。

薄膜の深さプロファイリングのためのGI-XRF

固体表面の分析の分野では、表面よりわずかに深く浸透する分析が（主に薄膜および厚膜の分野で）要求されています。 この種の分析のために、斜入射Ｘ線蛍光（GI -XRF）と呼ばれる方法論が採用され、それによって表面下の元素はＸ線源の入射角を変えることによって励起されます。 NANOHUNTER II TXRF分光計は入射角が可変であるため、深さプロファイルの表面分析を実行することが可能です。 GI -XRF技術はナノスケール研究に適用可能です。