XHEMIS TX-3000V

VPD内蔵TXRFスペクトロメーター

超高速金属汚染マッピング

VPDによる最高感度

300mmウェーハまで対応

XHEMIS TX-3000V 概要

典型元素の検出限界(LLD)

検出限界LLD(E10原子/cm²) Al Fe Ni Cu
TXRF 14 0.06 0.06 0.09
VPD-TXRF 0.1 0.001 0.001 0.002

計測時間:1000秒  

XHEMIS TX-3000V 仕様

手法 蒸気相分解(VPD)を伴う全反射X線蛍光分析(TXRF)
用途 極微量元素niyoru表面汚染の測定
1E7原子/cm²の検出限界
マッピング速度の約3倍の改善
テクノロジー 統合された自動VPD準備、三重ビーム励起、および自動光学部品交換
主要コンポーネント 3検出器構成
高出力W対陰極X線源(9 kW回転対陰極)
軽元素、遷移元素、重元素に最適化された3つの励起エネルギー
XYθ試料ステージ
デュアルFOUPロードポート
特徴 フルウェーハマッピング(SWEEPING-TXRF)
ゼロエッジ除外(ZEE-TXRF)
最高感度のためのSiウェーハ用の統合された自動VPD前処理(VPD-TXRF)
デュアルFOUPロードポート
オプション バックサイド解析(BAC-TXRF)
GEM300ソフトウェア、E84/OHTサポート
空間情報を保持しながら感度を向上させるための蒸気相処理(VPT-TXRF)
親水性ウェーハ表面(例:SiC)用のVPD
本体寸法 1280 (W) x 3750 (D) x 2040 (H)
(モニターとシグナルタワーを除く)
測定結果 定量結果、スペクトルチャート、カラーコンターマップ、マッピングテーブル

XHEMIS TX-3000V イベント

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