Anton Paar HTK 2000N 高温装置
耐火物の粉末 XRD 用のストリップ ヒーターを備えた高温サンプル加熱ステージ。 タングステン ストリップの使用により、非常に高い温度と迅速な加熱と冷却が実現し、ストリップのプレストレス機構によりサンプル位置の高い安定性が保証されます。
温度範囲:
W- ストリップ: 真空中 25 °C ～ 2300 °C
Pt 付きストリップ: 空気中、真空中 25 °C ～ 1600 °C
雰囲気: 真空(10⁻⁴ mbar) 、不活性ガス、空気
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