Anton Paar HTK 16N 高温装置
粉末回折用のストリップ ヒーターを備えた高温サンプル加熱ステージ。 非常に高速な加熱と冷却が可能で、加熱ストリップのプレストレスによりサンプル位置の高い安定性が保証されます。
温度範囲:
Pt ストリップの場合: 25 °C ~ 1600 空気中、真空中 °C
Ta および C ストリップの場合: 真空中 25 °C ~ 1500 °C
雰囲気: 空気、不活性 ガス、真空(10⁻⁴ mbar)
![Photo of Anton Paar HTK 16N 高温装置](https://rigaku.com/hs-fs/hubfs/2024%20Rigaku%20Global%20Site/Products/Accessories/Anton%20Paar%20HTK%2016N%20High-Temperature%20Chamber/Anton%20Paar%20HTK%2016N%20High-Temperature%20Chamber.jpg?width=800&height=610&name=Anton%20Paar%20HTK%2016N%20High-Temperature%20Chamber.jpg)
粉末回折用のストリップ ヒーターを備えた高温サンプル加熱ステージ。 非常に高速な加熱と冷却が可能で、加熱ストリップのプレストレスによりサンプル位置の高い安定性が保証されます。
温度範囲:
Pt ストリップの場合: 25 °C ~ 1600 空気中、真空中 °C
Ta および C ストリップの場合: 真空中 25 °C ~ 1500 °C
雰囲気: 空気、不活性 ガス、真空(10⁻⁴ mbar)