面內繞射有何應用？
用於薄膜材料表徵
面內繞射是一種 X光繞射技術，其中入射光束和繞射光束幾乎平行於樣品表面，是薄膜表徵的重要方法。在標準繞射幾何（如 Bragg-Brentano 幾何）下，測量的是與樣品表面平行的晶面。X光會穿透樣品一定深度，在其中發生繞射；然而，如果樣品層太薄，X光會被樣品完全透射，無法觀測到繞射。在這種情況下，則採用面內繞射。
SmartLab 的第五面內水平軸可測量樣品表面平面內的繞射。厚度不到一個奈米的超薄膜以及表層織構可以在無需將樣品重新置於不穩定的垂直位置的情況下進行分析。通過耦合面內與垂直掃描軸，可以完整測量織構化塊體材料的結構。樣品始終保持水平放置。水平樣品放置還可以使用全線聚焦光束，大幅縮短測量時間，無需在掃描前轉換為點聚焦。利用 SmartLab 的 CBO 技術和 5 圈測角儀，科學家可以進行更復雜且更易操作的實驗。
面內繞射具有兩個主要特點：光束的穿透深度限制在樣品表面約 100 nm 以內；該技術測量的晶面幾乎垂直於樣品表面，其他技術無法測量。
