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如何表徵晶體取向?

X光繞射 (XRD) 在晶體取向分析中的應用

單晶是現代高技術產業核心基礎材料:其電子特性對半導體工業至關重要,磁學特性決定了磁性儲存設備的性能,而力學與化學特性則推動著材料科學的不斷發展。值得注意的是,單晶的性能不僅取決於其晶體種類與品質,更與晶體取向密切相關。因此,晶體取向的精確測定成為單晶技術應用的關鍵環節,而X光繞射技術已發展成為該領域的標準化表徵手段。

產品 | 應應用說明

晶体定向

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